ヒドラジンベースの材料トレイドライヤー

4-メチル-2-ヒドラジンベンゾチアゾールとも呼ばれるヒドラジンは、168 〜169°の融点を持つ殺菌剤であるトリシクラゾールの重要な中間体です。トリシクラゾールは、高生物学的活動と独自の作用メカニズムを備えた非常に効率的な全身性殺菌剤です。それは特に、米の爆発を予防し、制御するのに効果的です。多くの国での野外実験では、この薬が80％〜90％の予防効果があることが示されており、イネ爆風を予防および制御するのに理想的な薬剤となっています。トリシクラゾールの作用のメカニズムは、胞子の形成を阻害し、病変の膨張と胞子の産生を防ぎ、それによって再感染を阻害することです。国内および外国人ユーザーは、トリシクラゾール殺菌剤の元の薬物の品質要件を改善し続けているため、工業生産で高品質のヒドラジンを取得する必要があります。

ヒドラジンベースのディスク連続乾燥機は、非常に効率的な導電性連続乾燥装置です。そのユニークな構造と作業原理は、高熱効率、低エネルギー消費、小さなフットプリント、シンプルな構成、便利な動作と制御、および優れた動作環境の特徴を備えていることを決定します。

ヒドラジンベースの材料の乾燥中に、湿ったヒドラジンベースの材料は、餌箱から乾燥機の上層の乾燥プレートに継続的に添加され、レーキ付きのレーキアームが回転してレーキが湿ったヒドラジンベースの材料を連続的に回転させます。ヒドラジンベースの材料は、指数関数的なスパイラルラインに沿って乾燥プレートの表面上を流れます。小さな乾燥プレート上のヒドラジンベースの材料は、外側の端に移動し、外側の端から下の大きな乾燥プレートの外側の端に落ちます。大きな乾燥プレートの材料は内側に移動し、中央のドロップポートから次の層の小さな乾燥プレートに落ちます。大小の乾燥プレートは交互に上下に配置され、ヒドラジンベースの材料は乾燥機全体を継続的に流れることがあります。

加熱培地は、中空の乾燥プレートに導入されます。加熱培地は、飽和蒸気、温水、熱伝達油、高温溶融塩の形です。加熱培地は乾燥プレートの一方の端から入り、もう一方の端から排出されます。乾燥ヒドラジンのベースは、次の層の乾燥プレートから収集プレートまで落ち、排出のためにrakesによって排出ポートに移動します。水分はヒドラジンベースからあふれ、上部カバーに設定された湿気排出ポートから排出されます。最下層から排出される乾燥材料は、直接パッケージ化できます。